OVLScan系列套刻精度測量儀
Optical Critical Dimension Metrology instrument
光學(xué)線寬測量儀
Optical Critical Dimension Metrology instrument
光學(xué)線寬測量儀
產(chǎn)品簡介
OVLScan系列產(chǎn)品采用自研精密光學(xué)成像技術(shù)、高性能聚焦技術(shù)、先進(jìn)的套刻量測算法及系統(tǒng)化集成技術(shù)，滿足半導(dǎo)體各細(xì)分領(lǐng)域的光刻工藝質(zhì)量管控及優(yōu)化的需求。
應(yīng)用場景
主要應(yīng)用于集成電路制造過程中光刻工藝套刻誤差的量測。
適用領(lǐng)域：涵蓋邏輯、存儲、功率及化合物半導(dǎo)體（SiC/GaN/InP/GaAs）等制造環(huán)節(jié)。
晶圓尺寸：4"/6"/8"兼容，8"/12"兼容
產(chǎn)品特點(diǎn)
· 高穩(wěn)定性：運(yùn)行環(huán)境擾動監(jiān)測及補(bǔ)償、系統(tǒng)模塊化精密集成；
· 高精度：高分辨率光學(xué)成像系統(tǒng)、納米級運(yùn)動控制系統(tǒng)及圖像信號信噪比增加算法；
· 高工藝適應(yīng)性：寬光譜精密調(diào)節(jié)光源，工藝數(shù)據(jù)分析補(bǔ)償系統(tǒng)；
· 高產(chǎn)能：自適應(yīng)自動聚焦技術(shù)，高動態(tài)響應(yīng)運(yùn)動機(jī)構(gòu)，設(shè)備最優(yōu)運(yùn)行流程規(guī)劃；
· 高智能化：設(shè)備運(yùn)行自診斷及校準(zhǔn)，無晶圓模型建立及配方自動生成，量測參數(shù)自動優(yōu)化；
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